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电弧蒸发镀膜

在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。

优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等

缺点

会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜质量

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。

镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。简单地说，就是进行了镀钛防锈处理，打磨了刃口更锋利，同时冲口外侧进行了抛光，拔起来更轻松（镀钛后如不打磨，表面光洁度不够，拔起来阻力太大，必须要再抛光）。

与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。

　　工艺温度：典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量，PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。