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、工作温度：不同的镀膜需要不同的温度，比如镀金色TiN，温度580℃。镀银***TiCN温度是450℃。

2、工作时间：由于不同镀膜需要的温度不同，以致不同的镀膜需要不同的时间来控制；

3、材料本身：产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度；

4、真空镀膜材料：目前真空镀膜常规材料大致有：碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等，可以满足市面常规（普通）的镀膜需要，比较的镀膜材料有氮化钛铝，氮化铬膜等，用于加工比较复杂、的颜色；

5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响；

6、由于不锈钢表面加工工序的复杂性，每一张板材的每一道工序是不可能控制到一致的，这就直接影响到终成品的表面色泽，这也是目前该行业技术上的一个瓶颈。

较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。虽然加工层，镀层能够与之牢固地结合，因而无需用浸蚀法加以清除，一般只需进行酸洗处理。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑，在蒸发源表面上连续形成熔池，使金属蒸发后，沉积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结合力强的优点。

产生原因：产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染，产品表面有尘点、毛丝等，PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜色。

解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少***掉落在产品表面。

产生原因：主要原因是产品表面脏污，膜层无法在产品上沉积或结合力差，在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。

解决方案：将产品清洗干净，避免污染产品，确保表面洁净度。

磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.

1. 磁控溅射:

离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.

磁控溅射的基本原理:

磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,